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熱処理装置 |
独自のノウハウにより、熱処理に欠かせない安定した温度管理を実現しました。
最近注目のワイドギャップ半導体（ＧａＮ、等）向け熱処理装置もご好評頂いております。 |
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| OS-5500・シリーズ（高温タイプ） |
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ワイドギャップ半導体（GaN、SiCなど）のオーミック電極アロイ、アニールに好適
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| OS-3500・シリーズ（低温タイプ） |
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汎用化合物半導体（ＧａＡｓ系、ＩｎＰ系）のオーミック電極アロイ、アニールなどに好適
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| CA-5200 |
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化合物半導体に特化した多目的バッチ式アニール装置です。
基板温度は700℃まで対応可能で、3インチ基板5枚まで装着可能です。
また、処理室の移動機構を装備しており、加熱〜冷却までの間、処理室は密閉状態のまま行えます。
真空置換機構も装備しておりますので、固相拡散にもお使いいただけます。 |
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| OD-2500 |
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従来閉管内で行なわれていた亜鉛拡散プロセスを閉管方式で行うため、閉管方式と同等の性能を持ちながらも安全性・操作性が格段に向上しております。
φ2インチまたはφ3インチウェハに対応,
また二重のトラップ構造により、機内廃棄を一般廃棄に接続可能です。 |
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