HOME
＞ 特殊装置・受託開発装置
English
特殊装置・受託開発装置
研究開発に必要な特殊仕様装置の開発・試作や各種研究開発用機器のご相談・注文を承ります。
小型高電圧電源
HVP-6000
出力が個別にON/OFFする事ができ、電圧がモニターにて目視可能です。質量分析装置及びバイオ関連にご利用頂けます。
（共同開発元：㈱メムス・コア殿）
多目的エッチング ・ アッシング装置
PP-6000
実験から少量生産までをターゲットに開発した多目的エッチング装置です。机１個分以下の設置スペース（付帯機器を除く）で、ケミカルエッチングからプラズマエッチングまで対応可能です。
（受託開発元：三井物産エレクトロニクス㈱殿）
バックサイドエッチング装置
PABE-303
高周波プラズマ中で活性化したガスを使用し、Sｉウェハの裏面をドライエッチングします。
（受託開発元：東京エレクトロン㈱殿）
ＭＥＭＳ用常圧プラズマ装置
KAP-1000
独自の常圧・高密度プラズマ発生源を使用し、低温下で高速に絶縁膜の形成を可能にしました。
（共同開発元：積水化学工業㈱殿）
オーミックアロイ装置
バッチ式アニール装置
縦型拡散装置
酸化装置
汚染抽出装置
枚葉式両面洗浄装置
枚葉式リフトオフ装置
RCAウェット-光複合洗浄装置
レーザーアブレッシブＣＶＤ装置
ダイヤモンド成膜装置
ＡＬＤ装置
電子ビーム蒸着装置
全自動エッチング装置
多機能エッチング装置
化合物半導体用ドライエッチング装置
マルチ電極ドライエッチング装置
無電極高出力ＵＶ光照射装置
卓上型Deep UV光表面改質装置
ＵＶ光アッシング装置
ハードディスク表面改質装置
KOH異方性エッチング装置
マイクロマシン用陽極接合装置
電解めっき処理装置
空気イオンカウンタ
液中パーティクルカウンタ
マイクロチップ電気泳動装置
Chibi-MS（小型飛行時間型質量分析装置）
小型高電圧電源
多目的エッチング・アッシング装置
バックサイドエッチング装置
MEMS用常圧プラズマ装置
Copyright (c) 2007 Chemitronics Co., Ltd. All rights reserved
プライバシーポリシー
