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UV光応用装置 |
| Deep UV光による光化学反応を応用した装置です。基板表面の有機汚染物質を酸化除去する精密洗浄システムやUV光による表面改質を行います。また、独自の規格でＵＶランプの開発・製作が可能です。 |
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| E-285W |
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| 無電極高出力UV光を利用したイレーサー装置です。 |
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| MUS-350HG |
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特殊低圧水銀灯を光源とし、炭素化合物の分解除去を目的としたコンパクトな卓上型装置です。
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| UA-560W |
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| 短波長紫外線により有機汚染物質を分解し、同時に生させた活性酸素で汚染物を気化させるため、液体の入りづらい細部にも有効なアッシングです。 |
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| HD-810 |
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半導体製造用に開発したＵＶ光源を、ハードディスク製造に応用致しました。年々細密化するハードディスク製造に、半導体グレードの技術で対応致します。
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