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ウェット処理装置
ウェットエッチング装置・ウェット洗浄装置を中心に、リフトオフ装置など、各種ウェット処理装置をお届けしております。
汚染抽出装置
SA-800
基板内に溶液（水滴状）を置いて、カメラにより溶液位置を監視し３Ｄアクションテーブルにて螺旋状に溶液をスキャンさせます。汚染物質は溶液として回収致しますが、ハロゲンランプにより基板上で乾燥させることも可能です。
枚葉式両面洗浄装置
HU-8000
ウェハ両面の同時洗浄が可能です。また微細な構造部分に対しても高い洗浄能力を発揮します。
(対応基板 φ8インチ〜φ12インチ）
枚葉式リフトオフ装置
L-700
超音波に代わってスピン＆スプレーを採用した枚葉式リフトオフ装置です。超音波に比べて物理力は劣りますが、剥離膜を微細化せず、残すべきパターンに傷をつけない点に評価を頂いております。
(対応基板 φ2インチ〜φ4インチ）
RCAウェット・光複合洗浄装置
TCU-5000
第1ステップの有機洗浄による汚染物除去と第２ステップのUVオゾンによる精密ドライ洗浄が可能な理想的な複合洗浄装置です。
オーミックアロイ装置
バッチ式アニール装置
縦型拡散装置
酸化装置
汚染抽出装置
枚葉式両面洗浄装置
枚葉式リフトオフ装置
RCAウェット-光複合洗浄装置
レーザーアブレッシブＣＶＤ装置
ダイヤモンド成膜装置
ＡＬＤ装置
電子ビーム蒸着装置
全自動エッチング装置
多機能エッチング装置
化合物半導体用ドライエッチング装置
マルチ電極ドライエッチング装置
無電極高出力ＵＶ光照射装置
卓上型Deep UV光表面改質装置
ＵＶ光アッシング装置
ハードディスク表面改質装置
KOH異方性エッチング装置
マイクロマシン用陽極接合装置
電解めっき処理装置
空気イオンカウンタ
液中パーティクルカウンタ
マイクロチップ電気泳動装置
Chibi-MS（小型飛行時間型質量分析装置）
小型高電圧電源
多目的エッチング・アッシング装置
バックサイドエッチング装置
MEMS用常圧プラズマ装置
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