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研究開発・デモンストレーション


多様なニーズにお応えすべく、次世代プロセスの方向性を探る実験設備<CTT>。
自社開発製品の性能評価試験はもちろん、特殊プロセスの受託や研究用サンプル作成も承ります。

ラボ レイアウト



ANNEALING & DOPING WET PROCESS PHOTO & LITHO PROCESS
オーミックアロイ装置
化合物半導体用縦型拡散装置
酸化炉
超精密ウェットエッチング装置
オゾン水エッチング装置
リフトオフ装置
無機ドラフトチャンバ
有機ドラフトチャンバ
スピンコータ
両面マスクアライナー
露光機

UTILITY CVD & THIN FILM DRY ETCHING PROCESS
純水精製装置
除害装置
ウォータースクラバー
低圧プラズマCVD装置
大気圧プラズマCVD装置
レーザーCVD装置
MOCVD装置
CVD装置(12”)
CVD装置(6”)
蒸着装置
EB蒸着装置
三元スパッタ装置
Tiスパッタ装置
ドライエッチング装置(12”)
ドライエッチング装置(8”)
ドライエッチング装置(4”)
DeepRIE装置
犠牲層ドライエッチング装置
コンパクトエッチャー
イオンミリング装置
レーザー加工機

OBSERVATION & MEASUREMENT
FTIR
SEM(+EDX)
深度顕微鏡計
非接触段差計
非接触膜厚計
段差測定器
干渉式金属顕微鏡
実体顕微鏡
プローバー

 
■グループ会社
株式会社テクノフロント
株式会社テクノファイン
株式会社BioCMOS

■設備情報
実験設備<CTT>
 
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